华创锐新金属材料

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sputtering target 溅射靶材
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铪靶,铪合金靶材

铪靶,铪合金靶材
产品名称:铪靶,铪合金靶材
产品编号:Hafnium Sputtering Target, Hafnium Alloy Target
详细说明:

 铪靶/铪合金靶材

成份:铪/铪合金

铪靶,铪溅射靶材

材质

 

纯度

应用

Hf

3N (excl. Zr)

电子及半导体

other Hf

铪及铪合金

*

其他

纯度:99.9 - 99.999%

形态:按需定制。

提供铝背板,铜背板,钛背板等。

提供靶材合金化服务

提供靶材绑定服务。
 

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